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电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 GBT 29658-2013.pdf
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电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 GBT 29658-2013 电子 薄膜 高纯 铝合金 溅射 29658 2013
GB/T29658-2013表1(续)成分AlAISiAlCuAlSiCuAg10.310.310.310.3As10.510.510.50.5Au10.510.50.510.5B0.50.50.50.50.50.50.50.5Ba10.510.510.510.5Bi111111Be0.50.50.50.50.50.50.50.5Ca10.210.210.210.2Cd1.01.01.01.0Ce111111CI44444444Co0.10.1一0.10.1Cr520.4220.420.420.4Cs一10.510.510.50.5Cu5031531Fe50353311金属杂质0.50.10.50.10.50.10.50.1含量不大La0.50.50.50.5于106Li0.50.10.50.10.50.10.50.1Mg30221Mn1010.5110.510.50.5Mo10.20.210.20.2Na0.50.10.50.10.50.10.50.1Ni2011111111Pb0.30.310.30.3Sb10.50.510.50.5今30心252Sn0.20.210.20.2心32210.40.40.40.4Zn50.50.50.50.50.50.50.50.50.020.0010.020.0010.020.0010.020.001Th0.020.0010.020.0010.020.0010.020.001

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