用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范 GBT 29844-2013.pdf
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用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
GBT
29844-2013
用于
先进
集成电路
光刻
工艺
综合
评估
图形
规范
29844
2013
GB/T29844-2013前言本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则起草。请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。本标准起草单位：上海华虹NEC电子有限公司。本标准主要起草人：王雷、伍强、朱骏、陈宝钦。I
