电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 YST 1025-2015.pdf
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电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
YST
1025-2015
电子
薄膜
高纯
合金
溅射
1025
2015
1CS77.150.99H63YS中华人民共和国有色金属行业标准YS/T1025一2015电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材High-purity tungsten and tungster alloy sputtering target usedin electrcnic film2015-04-30发布2015-10-01实施中华人民共和国工业和信息化部发布YS/T1025-2015前言本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草。本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)提出并归口。本标准起草单位：宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司、株洲凯特实业有限公司、西安方科新材料科技有限公司。本标准主要起草人：姚力车、王学泽、丁照崇、张涛、扶元初、袁海车、郑文翔、宋佳、苏国平、钱红兵、袁洁、王兴权、张玉利、王越、杜铁路。
