电子薄膜用高纯钛溅射靶材 YST 893-2013.pdf
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电子薄膜用高纯钛溅射靶材
YST
893-2013
电子
薄膜
高纯
溅射
893
2013
YS/T893-2013前言本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则起草。本标准由全国有色金属标准化技术委员(SAC/TC243)归口。本标准起草单位：有研亿金新材料股份有限公司、宁波江丰电子材料有限公司。本标准主要起草人：何金江、董亭义、袁海军、罗俊锋、滕海涛、喻洁、贺昕、钱红兵、周辰、刘丹、陆灵芝、王学泽、熊晓东。IYS/T893-20134.1,2按照形状分类主要为圆形、矩形和异型（如三角形等）。4.1,3靶材的背板可包括铜及铜合金、铝及铝合金等。靶坯焊接层背板a)复合靶材b)单体靶材图1靶材结构示意图4.2化学成分产品化学成分应符合表1规定。表1高纯钛溅射靶材的化学成分表Ti质量分数/%，不小于99.999.99599.999纯度简称3N4N55NAg100.20.2Al1005.02.0B0.10.1Ca20-1.0Co1.00.1Cr4005.01.0Cu502.01.0F40015.07.0K0.10.1Li50.10.1Mg一1.00.1金属杂质质量分数/10%，Mn301.00.3不大于Mo504.00.5Na50.20.1Ni4005.00.5Pb2.00.12005.02.0Sn一2.01.0Th一0.0010.001U0.0010.001V1.01.01.00.5Zn1.00.5Zr5.01.02
