PlatingandFinishingMar.2023Vol.45No.3SerialNo.360Watts型镀钴体系电沉积工艺优化卓健飞1，何雨波1，汪镇涛2，谢新1，刘亚雄1，张志新1，王帅星2*，杜楠2（1.中国航发长江动力有限公司，湖南岳阳414001；2.南昌航空大学材料科学与工程学院，江西南昌330063）摘要：针对Watts型镀钴工艺，系统研究了Co2+/H3BO3摩尔比、表面活性剂、pH、温度、电流密度等参数对镀层沉积速度、硬度及微观结构的影响规律，获得了较佳的Watts型镀钴工艺方案。结果表明：适当增加Co2+含量可以加快镀层沉积速度，但过高Co盐会使阴极极化度减小、镀层结晶粗大；Co2+/H3BO3摩尔比在1.5时，Co2+的沉积电位较负、结晶更为细致。电流密度对镀层沉积速度影响最大，溶液pH值则显著影响镀层显微硬度；提高电流密度，镀层沉积加快，但镀层容易粗糙，电流密度可选择4A/dm2；升高镀液pH值有助于获得细致镀层，但pH＞5后镀液易出现沉淀；温度在40℃时镀层沉积速度和硬度均较佳。在优化的Watts型镀钴体系下所得镀层呈灰白色，晶粒呈棱片状，表面平整光滑，镀层硬度为320HV，沉积速度为22μm/h。GH4169合金表面施镀60μm厚的钴镀层，可以显著改善其耐磨性。关键词：钴；电沉积；Watts型；工艺参数；镀层硬度中图分类号：TG174.451文献标识码：AOptimizationofcobaltelectrodepositionprocessinWattsbathZhuoJianfei1，HeYubo1，WangZhentao2，XieXin1，LiuYaxiong1，ZhangZhixin1，WangShuaixing2*，DuNan2（1.AECCChangjiangEngineCompanyCo.Ltd.，Yueyang414001，China；2.SchoolofMaterialsScienceandEngineering，NanchangHangkongUniversity，Nanchang330063，China）Abstract：TheeffectsofCo2+/H3BO3molarratio，surfactant，pH，temperatureandcurrentdensityonthedepositionrate，hardnessandmicrostructureofthecoatingweresystematicallystudied，andabetterWattstypecobaltplatingelectroplatingprocesswasobtained.TheresultsshowthatproperincreaseofCo2+contentcanincreasethedepositionrateofcoating，buttoohighcontentofcobaltsaltmayreducethecathodepolarizationandmakecoarsecrystalgrains.ThedepositionpotentialofCo2+ismorenegativeandthecoatinggrainsarefinerwhenthemolarratioofCo2+/H3BO3is1.5.Thecurrentdensityhasthegreatestinfluenceonthedepositionrateofcoating，butpHvalueofthesolutionsignificantlyaffectsthecoatinghardness.Ifthecurrentdensit...
