第４２卷第５期２０２３年１０月沈阳理工大学学报ＪｏｕｒｎａｌｏｆＳｈｅｎｙａｎｇＬｉｇｏｎｇＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙＶｏｌ４２Ｎｏ５Ｏｃｔ２０２３收稿日期:２０２２－１０－１４基金项目:辽宁省教育厅青年科技人才“育苗”项目(ＬＧ２０１９２８)ꎻ辽宁省沈阳材料科学国家研究中心联合研发基金项目(２０１９ＪＨ３/３０１０００２１)ꎻ沈阳理工大学大学生创新创业训练计划项目(Ｓ２０２１１０１４４００１)作者简介:王健(２００１—)ꎬ男ꎬ本科生ꎮ通信作者:孙海静(１９８５—)ꎬ女ꎬ副教授ꎬ博士ꎬ研究方向为表面处理ꎮ文章编号:１００３－１２５１(２０２３)０５－００５６－０６ＣｈＣｌ￣Ｕｒｅａ低共熔溶剂中Ｚｎ￣Ｎｉ合金的电沉积行为研究王健ꎬ刘杰ꎬ赵鹤ꎬ崔家宁ꎬ坝媛ꎬ孙海静ꎬ谭勇ꎬ孙杰(沈阳理工大学环境与化学工程学院ꎬ沈阳１１０１５９)摘要:以氯化胆碱－尿素(ＣｈＣｌ￣Ｕｒｅａ)为溶剂ꎬ研究Ｚｎ￣Ｎｉ合金的电沉积行为ꎮ采用计时安培法和循环伏安法对Ｚｎ￣Ｎｉ合金的电沉积机理进行研究ꎬ采用扫描电子显微镜/能谱仪(ＳＥＭ/ＥＤＳ)和Ｘ射线衍射仪(ＸＲＤ)对镀层的微观形貌、元素组成和物相组成进行表征ꎮ分析结果表明:Ｚｎ￣Ｎｉ合金在ＣｈＣｌ￣Ｕｒｅａ低共熔溶剂中的成核机理符合三维瞬时成核ꎻＺｎ比Ｎｉ后沉积ꎬ其过程是受扩散控制下的不可逆还原反应过程ꎻ该体系下可制得致密、呈菜花结构的镀层ꎬＺｎ的含量高于Ｎｉꎮ关键词:低共熔溶剂ꎻＺｎ￣Ｎｉ合金ꎻ电沉积中图分类号:ＴＱ１５３.１６文献标志码:ＡＤＯＩ:１０.３９６９/ｊ.ｉｓｓｎ.１００３－１２５１.２０２３.０５.００９ＳｔｕｄｙｏｎｔｈｅＥｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌＢｅｈａｖｉｏｒｏｆＺｎ￣ＮｉＡｌｌｏｙＣｏａｔｉｎｇｉｎＣｈＣｌ￣ＵｒｅａＤｅｅｐＥｕｔｅｃｔｉｃＳｏｌｖｅｎｔＷＡＮＧＪｉａｎꎬＬＩＵＪｉｅꎬＺＨＡＯＨｅꎬＣＵＩＪｉａｎｉｎｇꎬＢＡＹｕａｎꎬＳＵＮＨａｉｊｉｎｇꎬＴＡＮＹｏｎｇꎬＳＵＮＪｉｅ(ＳｈｅｎｙａｎｇＬｉｇｏｎｇＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙꎬＳｈｅｎｙａｎｇ１１０１５９ꎬＣｈｉｎａ)Ａｂｓｔｒａｃｔ:ＴｈｅｅｌｅｃｔｒｏｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎｂｅｈａｖｉｏｒｏｆＺｎ￣Ｎｉａｌｌｏｙｉｓｓｔｕｄｉｅｄｕｓｉｎｇｃｈｏｌｉｎｅｃｈｌｏｒｉｄｅｕ￣ｒｅａ(ＣｈＣｌ￣Ｕｒｅａ)ａｓｓｏｌｖｅｎｔ.ＴｈｅｍｅｃｈａｎｉｓｍｏｆｅｌｅｃｔｒｏｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎＺｎ￣Ｎｉａｌｌｏｙ...
