电子薄膜用高纯钴靶材 YST 1053-2015.pdf

1CS77.150.70H62YS中华人民共和国有色金属行业标准YS/T1053一2015电子薄膜用高纯钴靶材High-purity cobalt sputtering target used in electronic film2015-04-30发布2015-10-01实施中华人民共和国工业和信息化部发布YS/T1053-2015电子薄膜用高纯钴靶材1范围本标准规定了电子薄膜用高纯钴靶材（以下简称高纯钴靶）的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单（或合同）内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯针靶。2规范性引用文件下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。GB/T1804一股公差未注公差的线性和角度尺寸的公差GB/T2828.1计数抽样检验程序第1部分：按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划GB/T6394金属平均品粒度测定方法GB/T8651金属板材超声板波探伤方法GB/T14265金属材料中氢、氧、氨、碳和硫分析方法通则YS/T837溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法YS/T1011高纯结化学分析方法杂质元素含量的测定辉光放电质谱法3术语和定义下列术语和定义适用于本文件。钯材target溅射沉积技术中的阴极部分。该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子、原子或离子的形式脱高阴极而在阳极表面沉积。4要求4.1产品分类4.1.1高纯钴靶按纯度分为4N5(99.995%)、5N(99.999%)两个级别。4.1.2高纯钻靶按焊接方式分为纤焊和非纤焊。4.2化学成分高纯结靶化学成分及杂质元素要求应符合表1的规定。4.3晶粒尺寸高纯结靶的品粒尺寸应符合表2的规定。需方如有特殊要求时，由供需双方商定，并在订货单（或合同)中注明。