头颅(tóulú)MRI读片知识第一页，共一百一十一页。磁共振成像机的基本(jīběn)结构稳定的静磁场稳定的静磁场————磁体磁体产生磁场变化的梯度磁场产生磁场变化的梯度磁场————梯度系统梯度系统存在流动的氢质子存在流动的氢质子————成像基础成像基础发射射频脉冲激发能量的装置发射射频脉冲激发能量的装置————射频系统射频系统接受物体放出接受物体放出(fànɡchū)(fànɡchū)能量的装置能量的装置————表面线圈表面线圈检测能量并转化为图象检测能量并转化为图象————计算机系统计算机系统第二页，共一百一十一页。影响(yǐngxiǎng)磁共振成像信号强度的因素组织特异性因素（内因）组织特异性因素（内因）操作因素（外因）–外磁场强度(cíchǎngqiángdù)与均匀性–射频脉冲序列–序列定时参数–信号叠加次数第三页，共一百一十一页。MRI与CT比较(bǐjiào)11、无骨性伪影，后颅凹显示好，、无骨性伪影，后颅凹显示好，22、可进行冠、矢及斜位扫描、可进行冠、矢及斜位扫描(sǎomiáo)(sǎomiáo)，充分显示病变；，充分显示病变；33、利用血管流动效应，进行血管成像；、利用血管流动效应，进行血管成像；44、利用血红蛋白变化的规律，了解并判断出血时相；、利用血红蛋白变化的规律，了解并判断出血时相；55、成像因素多，对病变的敏感性增加，有利发现微小病变，并在定性诊断中发挥更好、成像因素多，对病变的敏感性增加，有利发现微小病变，并在定性诊断中发挥更好的作用。的作用。第四页，共一百一十一页。正常(zhèngcháng)轴位图像脑叶定位了解中央沟的位置；了解中央沟的位置；了解大脑了解大脑(dànǎo)(dànǎo)外侧裂的位置；外侧裂的位置；额叶占大脑半球的额叶占大脑半球的3/53/5；；在大脑半球上层面，额叶占在大脑半球上层面，额叶占2/32/3；；颞叶位于外侧裂之外，颞叶位于外侧裂之外，枕叶位于侧脑室后角附近，枕叶位于侧脑室后角附近，基底节位于脑室前角和三角区之间。基底节位于脑室前角和三角区之间。第五页，共一百一十一页。中央(zhōngyāng)沟大脑(dànǎo)外侧裂第六页，共一百一十一页。上层面中央(zhōngyāng)沟位置中央(zhōngyāng)沟额叶顶叶(dǐnɡyè)半卵圆中心第七页，共一百一十一页。脑室(nǎoshì)层面中央沟位置中央(zhōngyāng)沟额叶顶叶(dǐnɡyè)放射冠第八页，共一百一十一页。基底节区与枕叶范围(fànwéi)尾状核额叶颞叶...
