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微束分析 电子背散射衍射 平均晶粒尺寸的测定 GBT 38532-2020.pdf
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微束分析 电子背散射衍射 平均晶粒尺寸的测定 GBT 38532-2020 分析 电子 散射 衍射 平均 晶粒 尺寸 测定 38532 2020
GB/T38532-2020/1S013067:2011微束分析电子背散射衍射平均晶粒尺寸的测定1范围本标淮规定了用电子背散射衍射法(EBSD)对抛光截面进行平均晶粒尺寸的测定方法,包含与晶体试样中的位置相关的取向、取向差和花样质量因子的测量要求)。注1:使用光学显微镜测定品粒尺寸已为大家普遍接受,与其相比,ESD具有很多技术优势,如高的空间分辨率和品粒取向的定量措述等。注2:该方法还可用于一些复杂材料(如双相材料)的晶粒尺寸测量,注3:对变形程度较大的试样进行分析时,需谨慎处理结果,2规范性引用文件下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。ISO16700微束分析扫描电镜图像放大倍数校准通则(Microbeam analysis-一Scanning elec-tron microscopy-Guidelines for calibrating image magnification)ISO/IEC17o25检测和校准实验室能力的通用要求(General requirements for the competence oftesting and calibration laboratories)ISO21748在测量不确定度评估中可重复性、再现性和正确性评估的使用指南(Guidance for theuse of repeatability,reproducibility and trueness estimates in measurement uncertainty estimation)ISO23833微束分析电子探针显微分析(EPMA)术语Microbeam analysis-一Electron probemicroanalysis(EPMA)-VocabularyISO24173微束分析电子背散射衍射取向分析方法导则(Microbeam analysis一Guidelines fororientation measurement using electron backscatter diffraction)3术语和定义IS024173和IS023833界定的以及下列术语和定义适用于本文件。3.1与EBSD品粒尺寸测量相关的术语3.1.1步长step size在EBSD图像数据采集过程中,获得单独EBSD花样相邻两点之间的距离,3.1.2像素piel;picture elementEBSD取向图中与步长相关的最小面积单元,电子束停留在该面积单元中心时所获得的取向测量结果构成了EBSD取向图的基本单元。

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