确定晶片坐标系规范 GBT 16596-2019.pdf

GB/T16596-2019正表面2=0点增大的8主定位基准图2三维坐标系Z轴的方向指示5晶片坐标系的应用5.1本品片坐标系用于确定和记录晶片上的缺陷、颗粒等测试结果的准确位置。5.2光刻的掩膜校准规则可与本品片坐标系不一致。5.3硅片的副参考面位置由主参考面沿顺时针方向旋传而确定，其与品片坐标系的极角坐标规则相反。5.4在SEMI M1中，用边缘轮廓模板建立的边缘参考坐标系用于边缘的参照，其与本品片坐标系不同。边缘轮廓模板和边缘轮廓参数使用不同的坐标系，具体如下：)边缘轮廓模板用X轴的径向方向（从品片边缘向内）和Y轴的垂直方向（从品片表面向晶片中位面)定义模板；b)边缘轮廓参数用g轴的径向方向（从品片边缘向内）和Z轴的垂直方向（从品片中位面向品片表面)定义边缘轮廓的横截面。5.5在SEM1E5中，晶片的标淮位置类似于其在晶片坐标系的位置，即主定位基准向下，它的平分线在Y轴负方向上，而品片的旋转位置是从该标准位置向顺时针方向旋转来定义，这与品片坐标系的极角坐标规则相反。在SEE5中，不旋转坐标系的轴，品片相对于轴旋转。而在品片坐标系中，坐标轴由品片本身定位，不受品片实际空间位置的限制。5.6在GB/T34479和YS/T986中，对于直径100mm、125mm和150mm带参考面的品片，它的字符字段的位置是参照参考面而不是参照品片中心点来规定，字符字段的位置相对于品片中心点是变化的，字符字段顶角处位置的坐标（在品片坐标系中）可以因晶片而不同：而直径150mm、200mm和300mm带切口的品片字符字段位置是参照品片中心点来定位。5.7在某些情况下，无图形的品片表面不易区分正面和背面。5.8SEM1E5在“流12一品片图像”中，描述了一个坐标系是如何报告待传输的位置数据。另外，坐标系的原点既可以是在生成品片图像时由设备指定，也可以是位于阵列中的五个位置之一（即左上角，左下角、右上角、右下角或中心)。该“流”保证品片图像坐标系与实际品片相对应的基准点的任一数据的传输，而本品片坐标系可用于确定基准点和品片图像坐标系原点的位置。注：流是程序输人或输出的一个连续的字节序列，5.9GB/T16595规定了含有1000个单元的极坐标阵列，可用于标记品片上分布的缺陷（例如滑移）的位置。该阵列与晶片坐标系一致，5.10本标准中的品片坐标系对晶片的直径没有特殊规定，但对于自动设备，可能只接收标称直径的品片，