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硅抛光片表面质量目测检验方法
GBT
6624-2009
抛光
表面
质量
目测
检验
方法
6624
2009
GB/T6624-2009观察者10cm-20cm面真空吸笔图1用高强度会聚光检测硅片正面的示意图7.1.2检测光源分别为高强度汇聚光:照度2300001x:大面积散射光:照度4301x一6501x。7.2检测步骤7.2.1用真空吸笔吸住抛光片背面,使高强度汇聚光束斑直射抛光片正面(如图1所示)。晃动抛光片,改变入射光角度,目测检查整个抛光片正面的缺陷:沾污、雾、划道、颗粒。7.2.2将光源换成大面积散射光源,目测检查抛光片正面的缺陷:边缘碎裂、桔皮、鸦爪、裂纹、槽、波纹、浅坑、小丘、刀痕,条纹。7.2.3用真空吸笔吸住抛光片背面,转动吸笔使抛光片背面向上,在大面积散射光照射下,目测检查抛光片背面的缺陷:边缘碎裂、沾污、裂纹、刀痕。8检测结果计算8.1记录观察到的颗粒情况。8.2记录划道根数。8.3记录观察到的边缘碎裂、弧坑、波纹、小丘、浅坑、鸦爪、条纹、槽和裂纹数目。9试验报告试验报告应包括以下内容:a)硅抛光片的批号;b)硅抛光片的生产单位:c)检测条件:d)检测结果;c)本标准编号:D检验者签章:g)检测日期。2