光掩模对准标记规范 GBT 16524-1996.pdf

中华人民共和国国家标准GB/T16524-1996光掩模对准标记规范Specification for registration marks for photomasks1范围本规范规定了所有光掩模上使用的对准标记的形状、尺寸范围和一般位置。本规范适用于光掩模。2引用标准下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。SJ/T10152-91集成电路主要工艺设备术语SJ/T10584一94微电子学光掩蔽技术术语3定义规范中所用术语的定义按SJ/T10152,SJ/T10584的规定。4要求4.1一般要求4,1.1,对准标记的完整规范应由电路设计者、掩模制造者和掩模使用者协商确定。4.1.2规范规定制作在光掩模上的一种特定标记，用以确定同一套光掩模内，一块光掩模对另一块光掩模的相对位置精度。4.1.3对准标记不是预定用于确定光刻机上光掩模在同一晶片上的图像层对任何后续图像层的套准精度。4.2对准标记的形状及尺寸4.2.1标记形状应呈十字形，见图1.4,2.2标记中水平线和垂直线交叠处所构成的区域应定为“利用区”，在该区域内，设计者、掩模制造者和掩模使用者可以设置任何几何图形。但“利用区”内所设定的几何图形不得超过交叠区界线，见图2。4.2.3标记水平线和垂直线的宽度(W)应相等。4.2.4标记水平线和垂直线的长度(L)应相等。4.2.5标记水平线、垂直线的宽度和长度可以因设计规则、倍率、工艺要求而变化。表1列出各种类型光掩模的设计尺寸。本条款应符合4.2.3和4.24的规定。国家技术监督局1996-09-09批准1997-05-01实施1