IEC•NORMEINTERNATIONALEINTERNATIONALSTANDARDCEIIEC747-11QC7501001985AMENDEMENT2AMENDMENT21996-05Amendement2DispositifsàsemiconducteursPartie11:SpécificationintermédiairepourlesdispositifsdiscretsAmendment2SemiconductordevicesPart11:Sectionalspecificationfordiscretedevices©CEI1996Droitsdereproductionréservés—Copyright—allrightsreservedBureauCentraldelaCommissionElectrotechniqueInternationale3,ruedeVarembéGenève,SuisseCommissionElectrotechniqueInternationaleInternationalElectrotechnicalCommissionMeaulyiiapowian3nemtporexHHuecKaeKOMHCCHA�•CODEPRIXPRICECODEPourprix,voircatalogueenvigueurForprice,seecurrentcatalogueHLICENSEDTOMECONLimited.-RANCHI/BANGALOREFORINTERNALUSEATTHISLOCATIONONLY,SUPPLIEDBYBOOKSUPPLYBUREAU.–2–�747-11amend.2©CEI:1996AVANT-PROPOSLeprésentamendementaétéétabliparlesous-comité47E:Dispositifsdiscretsàsemiconducteurs,ducomitéd'études47delaCEI:Dispositifsàsemiconducteurs.Letextedecetamendementestissudesdocumentssuivants:FDISRapportdevote47E/34/FDIS47E/40/RVDLerapportdevoteindiquédansletableauci-dessusdonnetouteinformationsurlevoteayantaboutiàl'approbationdecetamendement.Page2SOMMAIREAjouterletitredunouveauparagraphe2.6suivant:2.6DéfinitionsrelativesauxopérationsdefabricationChangerletitreduparagrapheexistant3.3commesuit:3.3Procéduresd'associativitéAjouterletitredunouveauparagraphe3.4suivant:3.4Exigencesdecontrôlepourl'homologationRenuméroterlesparagraphesexistants3.4à3.7en3.5à3.8.Page10Ajouter,aprèsleparagraphe2.5.3,lenouveauparagraphe2.6suivant:2.6Définitionsrelativesauxopérationsdefabrication2.6.1LignedefabricationUnelignedefabricationestdéfiniecommeunensembleuniqued'opérationsdefabricationcomprenantuneouplusieursdesphasesdefabricationsuivantes:a)traitementplaquette;b)préparationdespastilles;c)assemblage;d)finitionetmesuresélectriquesfinales;e)sélection(siapplicable).LICENSEDTOMECONLimited.-RANCHI/BANGALOREFORINTERNALUSEATTHISLOCATIONONLY,SUPPLIEDBYBOOKSUPPLYBUREAU.747-11Amend.2©IEC:1996�–3–FOREWORDThi...
