韦亚一：,致力于提升国产芯片制造力孔芳芳张卉2022年9月14日，是美国对华为实施新禁令生效前的最后一天。这一天，华为消费者业务CEO余承东在微博发布了关于今年开发者大会的花絮，他回应网友关于今年Mate40的发布日期：“请大家再等一等，一切都会如期而至。〞而随着禁令的生效，华为最可依靠的、国产芯片的质量提升和国产芯片企业的强大更加成为关注热点。国产芯片制造何时能赶上国际先进水平？就在这两天，在南京浦口区科创一号大厦，南京诚芯集成电路技术研究院院长韦亚一博士给了这样一个答复：提升芯片制造能力，中国大陆有望在7至8年左右赶上国际第一梯队。研发先进芯片制造技术，这也是韦亚一自7年前回国后一直在做的事情。他在国内芯片领域的一系列开创性举动堪称国内集成电路高地的南京浦口区，集合了一批集成电路企业。韦亚一于两年前在浦口成立由中国科学院微电子研究所及核心科研骨干、浦口科创投资集团三方注册的南京诚芯集成电路技术研究院。“诚芯〞，顾名思义，与当下最热门的芯片制造有关。“芯片是商界称呼，集成电路是学术界叫法，这两个是一回事。〞韦亚一这么解释。韦亚一1994年从中科院上海技术物理研究所进入德国Stuttgart大学和马普固体研究所研究半导体技术，获博士学位。他的导师，是诺贝尔物理学奖获得者KlausvonKlitz-ing。4年后，他毕业后进入芯片研发制造的前沿领域，直至2022年回国参加中科院微电子研究所。回忆整个科研经历，韦亚一近乎见证了先进芯片制造技术从开展初期到如今的整个过程，他在这一领域的研究也位列国际先进水平。作为国家级特聘专家，韦亚一回国后将自己的技术全部用来提升中国芯片制造水平，进行了一系列开创性举动：他在中科院微电子所直接参与领导了22nm～7nm（纳米）等多个先进节点的光刻工艺和计算光刻研发，突破计算光刻领域多项核心算法和模型，搭建了集成电路虚拟制造全流程仿真平台。光刻技术是芯片制作的核心技术，它相当于把芯片上的图形做小。22nm～7nm是指芯片上晶体管的最小尺寸。韦亚一说，原来一个芯片可做1亿个晶体管，现在已能到达2.3亿个。而芯片越小（光刻工艺纳米数越小），上面的晶体管数量越多，就代表芯片的功能越强大，相应地芯片的技术水平也越高。目前国际上投入量产的最先进技术节点是7nm。光刻技术需要依赖高端光刻设备，高端光刻机被称为世界上最精密的仪器之一。“中国一直没有大型量产用先进光刻机，一但从国际上采购被别国限制，就会被卡脖子。〞如今更精密的...
